光脉冲技术的应用将会出现更加强大的微处理器

2008年05月07日09:37　来源：和讯网

作者：Rainy(编译)

　　和讯IT消息 据媒体Compterworld 5月6日报道，普林斯顿的研究人员这周发表报告称：他们使用光脉冲技术，可以完全清除计算机芯片表面隐藏的纳米瑕疵的方法。这个发现，将使处理器生产商生产出更高性能的微处理器。随着芯片的不断微化，在形状线条或点上不可避免的会出现一些微小的缺陷，这就会影响到芯片的外形，并导致集成电路里纳米结构的弯曲，这样就可能导致漏电和电压波动。有关研究人员还声称：芯片的这些缺陷对许多行业未来的发展都会造成障碍。

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　　专家针对这些问题开始不断的寻找解决方案，而普林斯顿大学的研究人员利用光脉冲很好的解决了这个问题。

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　　这种来自于激光的光脉冲，类似于做眼科手术所使用的激光，因为它能撞击瑕疵结构表面由半导体和金属制成的薄层，并且他们研制的这种脉冲，只会融化半导体和金属材料，所以在薄层下面的物质并不会受到任何损害。当芯片顶部较平并且侧面垂直的时候，研究人员可以还在芯片表面放置有一片薄薄的石英板，这样可以防止荣融化结构扩大导致引导液体流出。这种技术可以使70纳米宽的铬线的边缘比和以前顺畅5倍。

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　　研究人员对这项技术会有更深入的研究，并表示这不仅仅是制作方式的提高而是方案方向的转移。他们下一步的计划是在8英寸的晶片上对这项新技术进行试验。　　

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